ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX(サイヴァクス)株式会社
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ナノインプリントの初期検討において、高価なモールドのコストがネックとなり、 プロジェクトが頓挫するケースが増えております。 当社では初期評価を迅速に進めていただく為、お客様の仕様に合わせた低価格カスタムモールドをご提供しております。
また、 多くのお客様からお問合わせをいただいている大型全面パターンモールド(4インチから12インチ)もこれまでどおりご提供いたしております。以下のリストに示す既製品に加え、カスタム品の受託製造にも対応いたします。 詳細に関しては、お気軽にお問い合わせください。
最先端の半導体技術を用いた超微細パターンから、機械加工などによるマイクロレンズアレイなどのμmオーダーのパターンなど幅広くご対応いたします。
高アスペクトピラーモールド(MLP230/500)φ4インチからφ12インチまで対応
高輝度化用モールド(MLP230/MLH230)φ4インチからφ12インチまで対応
高輝度化用モールド(MLP230/MLH230)Cross section
お客様のご要望に応じ、評価用から量産用まで様々なカスタムモールドをご提供いたします。当社では、パターンサイズに応じ、7種の異なる加工プロセスを用いてモールドを作製しております。
一つのモールドにお客様のご要望のパターンを2種類以上形成することが可能です。
モールド材料: ニッケルパターン: ピラー〈右写真〉、L&S〈左写真〉L&S:幅250nm、高さ250nm、ピッチ500nmピラー:φ250nm、高さ250nm、ピッチ500nm
お客様の仕様に合わせて作成します(材質: Si、Ni)
パターン: L&S、Pillar、Hole 他パターンサイズ: 150nm~パターン領域: □10mm~□30mm材質: Si、Ni
Ni電鋳モールド複製受託をいたします。
Ni電鋳モールド(200nmピラー、高さ500nm)
φ8インチNi電鋳モールド(φ200nmピラーからの複製モールド)