ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
●量産に不可欠な高い成型再現性を実現
●小面積から大面積まで一括転写可能
●熱式、UV式両用
●多機能（「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等）
●操作性（シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン）
●クリーンルーム対応 （駆動部の密閉化）
●自動離型装置については別途お問い合わせください
企業のR&D部門や大学・研究機関からは、基礎研究や多くの材料を用いて加工実験を行う事を目的とした、ナノインプリント装置購入のニーズが顕在化しています。SCIVAXはナノインプリント装置メーカの強みと1,000件以上の受託実績で培ったプロセスノウハウの強みを活かして、多様的プロセスに対応できるこれまでにない画期的なコンセプトの装置を開発致しました。
概略と特徴
・以下の方式の組合せで計14通りの装置構成を選択可能
硬化方式：UV／熱／両用
成型方式：ステージ方式／均圧方式（特許取得済み）／両用
駆動方式：サーボモーター／エアシリンダ
・多彩なオプション機能
自動運転、モールドハンドリング機構、高機能フィルター、除電機構、UV照度UP、高真空対応
上記方式と機能を装置導入後でも変更、追加可能
| 方式 | 熱ナノインプリント／UVナノインプリント |
|---|---|
| 最大ワークサイズ | φ100㎜ |
| 最大荷重 | 20kN |
| 熱仕様 | 加熱温度：250℃ 加熱／冷却方式：ヒーター／水冷 |
| UV仕様 | 波長：365nm 照度：100㎜W／㎠~ |
| 真空機構 | あり |
| 外形 | W500×D700×H1700（㎜） |
| 重量 | 260㎏~ |
R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
| 形式 | 熱式・UV式ナノインプリント装置 |
|---|---|
| 転写方式 | 一括転写 |
| 被転写材料 | UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂 |
| 最高使用温度 | 250℃ |
| 最大荷重力 | 50kN |
| ステージ速度 | 最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構 |
| 最大ワークサイズ | φ150mm |
| 標準ワーク保持 | 真空吸着 |
| UV機能 | 波長 365nm/385nm 有効照射面積□100mm 最大加圧力2MPa 最大操作温度 100℃ |
| 真空機構 | 真空チャンバー付属 |
| 真空ポンプ | 標準真空到達圧力/300pa |
| 雰囲気制御 | 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする |
| 操作 | タッチパネル |
| 外形寸法・重量 | W900xH1,800xD1,300（mm）1,250kg |
| オプション | 高温ステージ（650℃） 自動運転 |
R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
（φ８インチまでインプリント可能です）
| 形式 | 熱式、UV式ナノインプリント装置 |
|---|---|
| 転写方式 | 一括転写 |
| 被転写材料 | UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂 |
| 最高使用温度 | 250℃ |
| 最大荷重力 | 100kN |
| ステージ速度 | 最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構 |
| 最大ワークサイズ | φ200mm |
| 標準ワーク保持 | 真空吸着 |
| UV機能 | 波長 365nm/385nm 有効照射面積φ200m 最大加圧力2MPa 最大操作温度 100℃ |
| 真空機構 | 真空チャンバー付属 |
| 真空ポンプ | 標準真空到達圧力/300Pa |
| 雰囲気制御 | 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする |
| 操作 | タッチパネル |
| 外形寸法・重量 | W900xH1,990xD1,650（mm） 1,500kg |
| オプション | 高温ステージ（650℃） 自動運転 |
