ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX(サイヴァクス)株式会社
●量産に不可欠な高い成型再現性を実現
●小面積から大面積まで一括転写可能
●熱式、UV式両用
●多機能(「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等)
●操作性(シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン)
●クリーンルーム対応 (駆動部の密閉化)
●自動離型装置については別途お問い合わせください
企業のR&D部門や大学・研究機関からは、基礎研究や多くの材料を用いて加工実験を行う事を目的とした、ナノインプリント装置購入の
ニーズが顕在化しています。SCIVAXはナノインプリント装置メーカの強みと1,000件以上の受託実績で培ったプロセスノウハウの強みを活かして、多様的プロセスに対応できるこれまでにない画期的なコンセプトの装置を開発致しました。
概略と特徴
・6通りのプロセスを選択できます。
成型方式:UV/熱/UV+熱アシスト
加圧方式:ステージ方式/均圧方式(特許取得済み)
・多彩なオプション機能
自動運転、モールドハンドリング機構、高機能フィルター、
除電機構、UV照度UP、高真空対応
上記で選択したプロセス、機能は、装置導入後でも変更、追加可能です。
型式 | RD-100 | RD-200 |
---|---|---|
成型方式 | UV/熱/UV+熱アシスト | UV/UV+熱アシスト |
加圧方式 | ステージ方式/均圧方式 | 均圧方式 |
駆動方式 | サーボモーター/エアシリンダ | サーボモーター |
最大ワークサイズ | Φ100mm | Φ200mm |
最大加圧力 | 0.9MPa | 0.9MPa |
熱仕様 | 加熱温度:250℃ 加熱/冷却方式:ヒーター/水冷 | 加熱温度:100℃ 加熱/冷却方式:ヒーター/水冷 |
UV仕様 | 波長:365nm 照度:200mW/cm² | 波長:365nm 照度:400mW/cm² |
真空機構 | あり | あり |
外形 | W500xD700xH1700(mm) | W700xD960xH2100(mm) |
重量 | 260㎏ | 500㎏ |
概略と特徴
生産現場からのニーズを基に必要なプロセスを一体化した
オールインワンタイプの装置です。
樹脂の塗布からベーク&クール、ナノインプリント、
アライメント(オプション)、自動離型の機能を提供致します。
型式 | Dyad® 200 |
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成型方式 | UV |
ウエハ搬送方式 | FOUP to FOUP(アダプター) |
機能 | スピンコート(2Cup)、ベーク&クールプレート、レプリカ作製、 ナノインプリント、離型、アライメント(オプション)、ロボット搬送 |
ワークサイズ | Φ200mm(0.3mm≦t≦1mm) |
モールドサイズ/ レプリカモールドサイズ | Φ200mm(0.3mm≦t≦1mm/ Φ300mm(0.7mm) |
熱仕様 | 加熱温度:250℃ 加熱/冷却方式:ヒーター/水冷 |
UV仕様 | UV-LED 365nm |
加圧力 | ≦0.90MPa |
真空度 | ≧50Pa |
離型機構 | 自動離型 |
アライメント精度 (機械精度) | ±1μm(オプション) |
スループット | 20枚/時間(プロセスに依存) |
外形 | W5,460xD2,560xH2,500(mm) |
R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
形式 | 熱式・UV式ナノインプリント装置 |
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転写方式 | 一括転写 |
被転写材料 | UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂 |
最高使用温度 | 250℃ |
最大荷重力 | 50kN |
ステージ速度 | 最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構 |
最大ワークサイズ | φ150mm |
標準ワーク保持 | 真空吸着 |
UV機能 | 波長 365nm/385nm 有効照射面積□100mm 最大加圧力2MPa 最大操作温度 100℃ |
真空機構 | 真空チャンバー付属 |
真空ポンプ | 標準真空到達圧力/300pa |
雰囲気制御 | 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする |
操作 | タッチパネル |
外形寸法・重量 | W900xH1,800xD1,300(mm)1,250kg |
オプション | 高温ステージ(650℃) 自動運転 |
R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
(φ8インチまでインプリント可能です)
形式 | 熱式、UV式ナノインプリント装置 |
---|---|
転写方式 | 一括転写 |
被転写材料 | UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂 |
最高使用温度 | 250℃ |
最大荷重力 | 100kN |
ステージ速度 | 最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構 |
最大ワークサイズ | φ200mm |
標準ワーク保持 | 真空吸着 |
UV機能 | 波長 365nm/385nm 有効照射面積φ200m 最大加圧力2MPa 最大操作温度 100℃ |
真空機構 | 真空チャンバー付属 |
真空ポンプ | 標準真空到達圧力/300Pa |
雰囲気制御 | 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする |
操作 | タッチパネル |
外形寸法・重量 | W900xH1,990xD1,650(mm) 1,500kg |
オプション | 高温ステージ(650℃) 自動運転 |