ナノインプリント装置​

ナノインプリント装置

●量産に不可欠な高い成型再現性を実現
●小面積から大面積まで一括転写可能
●熱式、UV式両用
●多機能(「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等)
●操作性(シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン)
●クリーンルーム対応 (駆動部の密閉化)

●自動離型装置については別途お問い合わせください

ナノインプリント装置の種類

RubiQ Type RD-100

企業のR&D部門や大学・研究機関からは、基礎研究や多くの材料を用いて加工実験を行う事を目的とした、ナノインプリント装置購入のニーズが顕在化しています。SCIVAXはナノインプリント装置メーカの強みと1,000件以上の受託実績で培ったプロセスノウハウの強みを活かして、多様的プロセスに対応できるこれまでにない画期的なコンセプトの装置を開発致しました。


概略と特徴

・以下の方式の組合せで計14通りの装置構成を選択可能

              硬化方式:UV/熱/両用

              成型方式:ステージ方式/均圧方式(特許取得済み)/両用

              駆動方式:サーボモーター/エアシリンダ

・多彩なオプション機能

              自動運転、モールドハンドリング機構、高機能フィルター、除電機構、UV照度UP、高真空対応

上記方式と機能を装置導入後でも変更、追加可能

方式熱ナノインプリント/UVナノインプリント
最大ワークサイズφ100㎜
最大荷重20kN
熱仕様加熱温度:250℃
加熱/冷却方式:ヒーター/水冷
UV仕様波長:365nm
照度:100㎜W/㎠~
真空機構あり
外形W500×D700×H1700(㎜)
重量260㎏~

X300

R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。

形式熱式・UV式ナノインプリント装置
転写方式一括転写
被転写材料UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂
最高使用温度250℃
最大荷重力50kN
ステージ速度最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構
最大ワークサイズφ150mm
標準ワーク保持真空吸着
UV機能波長 365nm/385nm 有効照射面積□100mm
最大加圧力2MPa
最大操作温度 100℃
真空機構真空チャンバー付属
真空ポンプ標準真空到達圧力/300pa
雰囲気制御真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする
操作タッチパネル
外形寸法・重量W900xH1,800xD1,300(mm)1,250kg
オプション高温ステージ(650℃)
自動運転
熱式・UV式ナノインプリント装置 x300

X500

R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
(φ8インチまでインプリント可能です)

形式熱式、UV式ナノインプリント装置
転写方式一括転写
被転写材料UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂
最高使用温度250℃
最大荷重力100kN
ステージ速度最大15mm/sec 最小50nm/sec
任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構
最大ワークサイズφ200mm
標準ワーク保持真空吸着
UV機能波長 365nm/385nm
有効照射面積φ200m
最大加圧力2MPa
最大操作温度 100℃
真空機構真空チャンバー付属
真空ポンプ
標準真空到達圧力/300Pa
雰囲気制御真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする
操作タッチパネル
外形寸法・重量W900xH1,990xD1,650(mm) 1,500kg
オプション高温ステージ(650℃)
自動運転
熱式、UV式ナノインプリント装置 x500
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