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NGS

NGSチップ製造コスト低減にNIL工程が最適

  • ナノインプリントプロセスでは、i線リソグラフィーでは形成の難しい≦0.5um の径のウェル構造が容易にできます。
  • 量産時のコストには大きな威力を発揮します。
  • その他の特徴:
    • 光学シミュレーションと設計技術
    • 12”大ウェハーまでの拡張可能
    • 表面化学修飾プロセス
      (親水化, 疎水化, など)

プロセス一例

ガラス基板

アッシングにより残膜、HMDS除去

疎水化表面処理
(e.g. HMDS)

親水化処理
(e.g.γAPTES)

ナノインプリント樹脂塗布

ナノインプリント樹脂のリフトオフ処理

ナノインプリント

金ナノ粒子の付着により、ホール部分の親水性を確認

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