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ナノインプリントの技術

ナノインプリント技術の特徴

大面積ナノインプリントが超微細加工技術の未来を切りひらく​

当社が独自に開発した大面積ナノインプリント技術により大幅な加工コストの低減が可能になり、様々なアプリケーションへの展開が進められています。
大面積ガラスであれば、G5(1,100mmX1,300mm)の一括成型、ウェハー加工であればφ12インチまでの成型が可能です。

ナノインプリントファウンドリ(量産受託サービス)

ナノインプリント技術のみでは、量産を実現することは出来ません。当社では、実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、独自の超微細加工ファウンドリプラットフォームを構築しました。本ファウンドリサービスをご活用いただくことにより新製品の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。

SCIVAXのナノインプリント技術

  • 大面積一括ナノインプリント
    最大G5(1,100mmX1,300mm)基板への一括成型が可能
  • マルチナノインプリント
    複数の基板への一括成型
  • うねりのある基板へのナノインプリント
    化合物半導体基板他、フラットネスが担保されていない基板への一括成型
  • 無機材料ナノインプリント
    SiO2他の材料への成型
  • 曲面ナノインプリント
    レンズ表面をはじめとする曲面への成型

アライメント技術​

8“一括ナノインプリント成型で±3μmのアライメント精度を実現しました。

高精度のパターン成型

100nmピッチのL&Sの場合、0.1nm以下の精度でパターンを成型する事が可能です。

例えばこんな加工技術

サファイア基板や 化合物半導体への加工

サファイアなどのうねり(反り)のある基板に対しても均一なパターニングが可能です。

レンズ曲面への加工

レンズ曲面(凹面、凸面、両面)への成型も可能です。
レンズ曲面への無反射構造を始めとする様々な微細加工が可能です。

樹脂への加工

様々な樹脂フィルム/基板への転写実績も豊富です。

大面積ガラス基板への加工

最大G5サイズ(1,300×1,100mm)のガラス基板への転写も全面均一なパターニングが可能です。
ガラス基板提供:東京エレクトロン㈱
東洋合成工業㈱製のインプリント樹脂組成物を使用

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