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ナノインプリントレジストでのエッチングでお困りはありませんか？ナノインプリントレジストに関わるドライエッチング上の様々な課題を解決します。
エッチング膜
基板サイズ、被エッチング膜種・様々なパターンサイズに対応します。
ナノインプリントによるレジストマスク形成からエッチングの最適化までを一括で受託する事ができます。
| ■被エッチング膜 | ●シリコン ●シリコン酸化膜 ●ガラス ●サファイア ●各種メタル薄膜 ●各種化合物半導体等 |
| ■エッチング形状 | ●ホール ●ピラー ●Line&Space ●円錐形状 ●その他 |
| ■パターンサイズ | ●20nm～数十μm |
| ■装置 | ●ICP－RIE等 |
エッチング方法
残膜エッチング
エッチングレート制御により残膜エッチングの課題を解決します。
レジスト不足
エッチング選択比の制御によりレジスト不足の課題を解決します。
形状制御
様々な形状制御が可能です。
