ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
ナノインプリントレジストでのエッチングでお困りはありませんか？ナノインプリントレジストに関わるドライエッチング上の様々な課題を解決します。
基板サイズ、被エッチング膜種・様々なパターンサイズに対応します。
ナノインプリントによるレジストマスク形成からエッチングの最適化までを一括で受託する事ができます。
| 被エッチング膜 | ●シリコン ●シリコン酸化膜 ●ガラス ●サファイア ●各種メタル薄膜 ●各種化合物半導体等 |
| エッチング形状 | ●ホール ●ピラー ●Line&Space ●円錐形状 ●その他 |
| パターンサイズ | ●20nm～数十μm |
| 装置 | ●ICP－RIE等 |
エッチングレート制御により残膜エッチングの課題を解決します。
エッチング選択比の制御によりレジスト不足の課題を解決します。
様々な形状制御が可能です。
エッチング開発のコンサルティングも行います。お気軽にご相談下さい。
※ナノインプリント加工基板のエッチングに限ります。
用いる基盤や膜種、狙いの形状や寸法、制度などをお伺いいたします。
ご要望の形状に対して実現性の高い形で最適な装置、ガズ種、条件などをご提案いたします。
ご予算に合わせて段階的にご提案することも可能です。
豊富な経験と高い技術により高品質な試作サンプルを納品いたします。
