ナノインプリントレジストでのエッチングでお困りはありませんか?ナノインプリントレジストに関わるドライエッチング上の様々な課題を解決します。

エッチング膜

基板サイズ、被エッチング膜種・様々なパターンサイズに対応します。
ナノインプリントによるレジストマスク形成からエッチングの最適化までを一括で受託する事ができます。

■被エッチング膜●シリコン ●シリコン酸化膜 ●ガラス ●サファイア ●各種メタル薄膜 ●各種化合物半導体等
■エッチング形状 ●ホール ●ピラー ●Line&Space ●円錐形状 ●その他
■パターンサイズ ●20nm~数十μm
■装置●ICP-RIE等

エッチング方法

残膜エッチング

エッチングレート制御により残膜エッチングの課題を解決します。

レジスト不足

エッチング選択比の制御によりレジスト不足の課題を解決します。

形状制御

様々な形状制御が可能です。

テーパードエッチング

エッチング事例

石英エッチング事例

サファイアエッチング事例

エッチング受託のながれ

エッチング開発のコンサルティングも行います。お気軽にご相談下さい。

ナノインプリント加工基板のエッチングに限ります。