MENU

ナノインプリント成型事例

ピラー・ホールパターン

LEDの外部量子効率改善、バイオセンサー等、様々な分野で利用されているパターンです。

ピラーパターン1

φ100nm、高さ150nm

ピラーパターン2

φ230nm、高さ500nm(シリコン基板)

サファイア基板上に
成型したピラーパターン

左上φ150nm 右上φ100nm
左下φ200nm 右下φ250nm

LED高輝度化事例

ハイアスペクトピラーパターン

ハイアスペクト(A/R=5)ピラーパターン

ホールパターン1

φ230nm ホール

ホールパターン2

φ230nm ホール 拡大

半導体用孤立パターン1

半導体用孤立パターン2

半導体用孤立パターン3

半導体用孤立パターン4

半導体用孤立パターン5

レンズアレー​

レンズアレーは、様々な光学デバイスで適用検討が進められています。

レンズアレーパターン1​

レンズアレー成形 φ10μm~φ200μm

レンズアレーパターン2

レンズアレー成形 φ10μm~φ200μm

レンズアレーパターン3

レンズアレー成形 φ10μm~φ200μm

無反射パターン

レンズ表面にモスアイ構造を形成することにより、ゴースト、フレア等の問題を解決することが可能です。

モスアイ構造1

モスアイ

レンズ曲面への加工

レンズ曲面へのモスアイ加工が可能。
ピッチ250nm~180nm

未処理レンズ

レンズに撮影者の写り込みあり。

両面モスアイ加工レンズ

無反射となりレンズ下に設置の画像が鮮明

未処理フィルム

未処理フィルム

両面モスアイ加工フィルム

ハニカム・格子パターン​

ハニカム・格子パターンは電子材料、バイオ用途等の様々な用途で採用されています。

ハニカムパターン1

W100nmハニカムパターン

ハニカムパターン2

一辺 : 1μm~数十μm

スクエアパターン

一辺 : 1μm~数十μm

細胞培養プレートへの
応用事例

三次元細胞培養プレート
NanoCulture Plate

培養した細胞

パターン上での培養でスフェロイドを形成

L&Sパターン

数十ナノレベルのパターニングが可能になり、液晶パネル用偏光板を始めとする様々な用途で実用化が進められています。

L&Sパターン

数十nm~数百μm

L&Sパターン2

数十nm~数百μm

フォトニッククリスタルへの応用事例

回折光学素子による
光の回折の様子

回折格子パターン
(同心円)

メタル配線

メタル配線は、タッチパネルを始めとする様々な用途で実用化が進められています。

Ag細線パターン1

PETフィルム上にAg細線パターンを形成
 (線幅:50nm~1μm)

Ag細線パターン2

PETフィルム上にAg細線パターンを形成
 (線幅:50nm~1μm)

PAGE TOP