ナノインプリント装置​

ナノインプリント装置

●量産に不可欠な高い成型再現性を実現
●小面積から大面積まで一括転写可能
●熱式、UV式両用
●多機能(「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等)
●操作性(シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン)
●クリーンルーム対応 (駆動部の密閉化)

●自動離型装置については別途お問い合わせください

ナノインプリント装置の種類

R&Dからパイロット生産までをカバーする
ナノインプリント装置 RubiQ🄬

企業のR&D部門や大学・研究機関からは、基礎研究や多くの材料を用いて加工実験を行う事を目的とした、ナノインプリント装置購入の

ニーズが顕在化しています。SCIVAXはナノインプリント装置メーカの強みと2,000件以上の受託実績で培ったプロセスノウハウの強みを活かして、多様的プロセスに対応できるこれまでにない画期的なコンセプトの装置を開発致しました。

ホワイトペーパーをダウンロード

 

概略と特徴

・プロセスに応じて、成型方式、加圧方式を選択できます。

成型方式:UV/熱(RD-100のみ)/UV+熱アシスト

加圧方式:ステージ方式/均圧方式(特許取得済み)

・多彩なオプション機能

自動運転、モールドハンドリング機構、高機能フィルター、

除電機構、UV照度UP(RD-100のみ)、高真空対応

上記で選択したプロセス、機能は、装置導入後でも変更、追加可能です。

型式RD-100RD-200
成型方式UV/熱/UV+熱アシストUV/UV+熱アシスト
加圧方式ステージ方式/均圧方式均圧方式
駆動方式サーボモーター/エアシリンダサーボモーター
最大ワーク
サイズ
Φ100mmΦ200mm
最大加圧力0.7MPa0.9MPa
熱仕様加熱温度:200℃(熱成型時)
加熱/冷却方式:ヒーター/水冷
加熱温度:100℃
加熱/冷却方式:ヒーター/水冷
UV仕様波長:365nm
照度:200mW/cm²
   400mW/cm²
   (オプション)
波長:365nm
照度:400mW/cm²
真空機構ありあり
外形W500xD790xH1790(mm)W700xD980xH2100(mm)
重量300㎏500㎏
備考2026年春発売予定

全自動ナノインプリント装置 Dyad🄬

概略と特徴

生産現場からのニーズを基に必要なプロセスを一体化した

オールインワンタイプの装置です。

樹脂の塗布からベーク&クール、ナノインプリント、

アライメント(オプション)、自動離型の機能を提供致します。

型式Dyad® 200
成型方式UV
ウエハ搬送方式FOUP to FOUP(アダプター)
機能スピンコート(2Cup)、ベーク&クールプレート、レプリカ作製、
ナノインプリント、離型、アライメント(オプション)、ロボット搬送
ワークサイズΦ200mm(0.3mm≦t≦1mm)
モールドサイズ/
レプリカモールドサイズ
Φ200mm(0.3mm≦t≦1mm/
Φ300mm(0.7mm)
熱仕様加熱温度:250℃
加熱/冷却方式:ヒーター/水冷
UV仕様UV-LED 365nm
加圧力≦0.90MPa
真空度≧50Pa
離型機構自動離型
アライメント精度
(機械精度)
±1μm(オプション)
スループット20枚/時間(プロセスに依存)
外形
W5,460xD2,560xH2,500(mm)
MENU
PAGE TOP