ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
ナノインプリント、微細加工、ファウンドリ、カスタムモールドのトータルソリューション SCIVAX（サイヴァクス）株式会社
LEDの外部量子効率改善、バイオセンサー等、様々な分野で利用されているパターンです。
φ100nm、高さ150nm
φ230nm、高さ500nm（シリコン基板）
左上φ150nm 右上φ100nm
左下φ200nm 右下φ250nm
ハイアスペクト（A/R=5）ピラーパターン
φ230nm ホール
φ230nm ホール 拡大
レンズアレーは、様々な光学デバイスで適用検討が進められています。
レンズアレー成形 φ10μm～φ200μm
レンズアレー成形 φ10μm～φ200μm
レンズアレー成形 φ10μm～φ200μm
レンズ表面にモスアイ構造を形成することにより、ゴースト、フレア等の問題を解決することが可能です。
モスアイ
レンズ曲面へのモスアイ加工が可能。
ピッチ250nm～180nm
レンズに撮影者の写り込みあり。
無反射となりレンズ下に設置の画像が鮮明
未処理フィルム
ハニカム・格子パターンは電子材料、バイオ用途等の様々な用途で採用されています。
W100nmハニカムパターン
一辺 ： 1μm～数十μm
一辺 ： 1μm～数十μm
三次元細胞培養プレート
NanoCulture Plate
パターン上での培養でスフェロイドを形成
数十ナノレベルのパターニングが可能になり、液晶パネル用偏光板を始めとする様々な用途で実用化が進められています。
数十nm～数百μm
数十nm～数百μm
