透過模具（型），將奈米尺度的微細圖案直接轉寫至樹脂或薄膜基板上的加工技術。不同於光學微影，不受波長造成的解析度限制，可形成數十 nm 以下的結構。形狀重現性佳，與光微影相比為低成本的量產技術。

使用奈米壓印微影（NIL）技術，將圖案均勻轉寫至大口徑晶圓或母玻璃基板等大型基板整體的技術。包含批次處理，以及 Roll to Roll、Roll to Plate 等設備。

在奈米壓印微影（NIL）中，作為圖案轉寫原版的模具。一般是以電子束微影（EBL）、光微影與乾式蝕刻在 Si 或石英上形成。依圖案尺寸亦有切削、Ni 電鑄等方式。以步進重複（Step Repeat）法製作的樹脂製品，有時也稱為「樹脂母模」。

在奈米壓印製程中，用於形成樹脂微細圖案的底材。可使用玻璃、Si、化合物半導體、樹脂薄膜等多種材料。

以母模為原版，使用專用複製樹脂複製而成的樹脂模具。為避免直接使用母模造成磨耗或損壞，用於壓印基板的成型。依圖案與需求特性不同，通常重複使用數十次左右即更換。

在 UV 壓印中，為具備可由 UV 光（通常為 i 線）固化特性的壓印專用樹脂溶液。在熱壓印中，則使用熱塑性或熱固性樹脂，並有溶液狀與片材狀等形式。

製作複製模時，為防止脫模時樹脂附著於母模表面並提升剝離性而事先進行的處理。有時也會施作於複製模表面。

有時會在壓印基板進行底塗（Primer）處理前施作，指以 VUV 光進行的乾式清潔與表面活化處理。

促進基材與成型樹脂黏著的藥液。以 UV 壓印處理玻璃基板等時，會先在基板表面塗佈矽烷偶聯劑等並進行表面處理。

在壓印製程中，成型基板上除圖案以外部分所殘留的薄樹脂膜。

由壓印製程形成、可作為蝕刻遮罩並最終被去除的暫時性薄膜。

由壓印製程形成，並作為元件最終結構保留下來的薄膜。

壓印樹脂固化後，將複製模自樹脂表面剝離。

在微細圖案形狀的側壁上，從基底部（基板側）朝向圖案頂端的傾斜角度。在壓印工程中，帶有些微錐度（圖案頂端較細）較容易脫模；若為逆錐度則較難脫模。

一般多作為 Design of Experiment（實驗設計法）的縮寫使用，但在 NIL 領域則指 Diffractive Optical Element（繞射型光學元件）。透過微細高度結構（如階梯狀等）的構成，可任意控制入射光的相位、振幅與強度分布。雖可生成複雜的光線分布，但也可能出現部分入射光未被繞射而直接通過的 0 次光，形成強烈光點。

【參考】⇒ 本公司不產生 0 次光的擴散光學元件（Diffuser）：Platanus