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ナノインプリント

ナノインプリントとは？

シリコン基板はもちろん、化合物半導体基板から大型ガラス基板まで様々な基板を対象とした一括ナノインプリント成型が可能です。

当社の技術は、以下の要素技術の融合により、初めて実現することができる大面積ガラス基板への一括ナノインプリント技術に集約されています。

①均圧成型技術　②うねりのある面への追従成型技術
③残膜制御技術　④自動離型技術
⑤気泡欠陥低減技術　⑥パーティクル欠陥低減技術
⑦アライメント技術

シリコン基板はもちろん、化合物半導体基板から大型ガラス基板まで様々な基板を対象とした一括ナノインプリント成型が可能です。

残膜を10nm以下でコントロール

・ウェハー（φ2″～φ12″）
・ガラス(最大1,100mmX1,300mm)
・ガラスレンズ
・メタル基板
・各種樹脂フィルム、シート、基板

各技術に精通したスペシャリスト集団とこれまでの多くの受託実績により、パターンの提案、樹脂の選定、前後工程も考慮したトータルプロセスのご提案が可能です。

当社規格の成型品・モールドの販売をしております。開発のテーマ検討、基礎評価にご利用下さい。

テスト用モールド（既製モールド等を使用）を用いて試作を実施。原理検証他基礎評価を行います。

①の試作の効果を踏まえて、パターンの最適化を行います。当社シミュレーション及びモールド受託製造サービスをご活用ください。

パターンの最適化されたモールドを用いて製品プロトタイプを製造。

量産を実現するためのプロセス開発を行います。

・量産用モールド作製

・製造設備のカスタマイズ

・品質管理基準

高度に管理された環境において量産製造を受託いたします。

様々な材質及び形状の基板へ成型が可能です。
◯パターンサイズ：20nm～数百μm
◯基板：各種ウェハー（シリコン、サファイア、化合物半導体、他）、ガラス基板、ガラスレンズ、メタル基板、樹脂フィルム・シート

フィルムへの無反射（モスアイ）加工

レンズ表面への無反射加工

12”シリコンウェハーへの加工

樹脂フィルム（COP）への成型

ガラス基板への成型

6″サファイア基板への成型

回折光学素子による光の回折の様子

回折光学素子（DOE）

超撥水加工

樹脂フィルムの成型サンプルを販売しております。詳しくは成型サンプルのページをご参照下さい。

規格品モールドを販売しております。詳しくは規格品モールドのページをご参照下さい。