Nanoimprint Mechanical

ナノインプリント装置

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ナノインプリント装置 ●量産に不可欠な高い成型再現性を実現
●小面積から大面積まで一括転写可能
●熱式、UV式両用
●多機能( 「自動離型機構」「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等)
●操作性(シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン)
●クリーンルーム対応 (駆動部の密閉化)

ナノインプリント装置の種類

UV式ナノインプリント装置 X100-U

ナノインプリント導入機として最適な廉価版UV式ナノインプリント装置です。
高性能LED UV光源、大面積ワーク、真空機構、他
様々な基礎検討に要求される機能を備えております。

形式 UV式ナノインプリント装置
UV出力 30mW/cm2
最大荷重力 4,000N
真空操作圧力 300Pa ※但し真空ポンプはOption
最大ワークサイズ □100mm
UV照射位置
外形寸法・重量 W400xH880xD400(mm)・120kg

熱式・UV式ナノインプリント装置 x300

R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。

形式 熱式・UV式ナノインプリント装置
転写方式 一括転写
被転写材料 UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂
最高使用温度 250℃、650℃(オプション)
最大荷重力 50kN
ステージ速度 最大15mm/sec 最小50nm/sec 任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構
最大ワークサイズ Φ150mm
標準ワーク保持 真空吸着
UV機能 波長 365nm/385nm 有効照射面積□100mm
最大加圧力2MPa
最大操作温度 100℃
真空機構 真空チャンバー付属
真空ポンプ 標準真空到達圧力/300pa
雰囲気制御 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする
操作 タッチパネル パソコン操作/データロガー 
20ステップの任意操作回路による自動運転
外形寸法・重量 W900xH1,800xD1,300(mm)1,250kg

熱式、UV式ナノインプリント装置 x500

R&Dからパイロット生産まで対応可能なモデルです。
(φ8インチまでインプリント可能です)

形式 熱式、UV式ナノインプリント装置
転写方式 一括転写
被転写材料 UV硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂
最高使用温度 350℃
最大荷重力 100kN
ステージ速度 最大15mm/sec 最小50nm/sec
任意設定可能、バックラッシュキャンセル機構
最大ワークサイズ Φ200mm
標準ワーク保持 真空吸着
UV機能 波波長 365nm/385nm
有効照射面積φ200m
最大加圧力2MPa
最大操作温度 100℃
真空機構 真空チャンバー付属
真空ポンプ 標準真空到達圧力/300Pa
雰囲気制御 真空チャンバー内を任意ガス雰囲気とする
操作 タッチパネル パソコン操作/データロガー
20ステップの任意操作回路による自動運転
外形寸法・重量 W900xH1,990xD1,650(mm) 1,500kg

マクロ欠陥検査装置 OptoScan-700(マクロ検査装置)

マクロ光学系でモールド及び転写フィルム等の評価が可能です。
ナノインプリントモールドや転写フィルムのパターンをマクロ視野で撮像することにより短時間でパターン欠陥や、離型剤塗布の不均一性を評価・検査することができます。

  • ●モールドの評価・解析
  • ●さまざまなパターン形状及びモールド材質に対応 (Ni、石英、樹脂モールド等)
  • ●離型剤の劣化・剥がれのモニタリング
  • ●転写パターンの均一性評価・解析
  • ●独自技術による高速・高感度撮像を実現
形式 マクロ欠陥検査装置
搭載可能ワークサイズ 300mmx300mm 0.1~10mm厚
0.1mm以下の厚みの場合はご相談下さい。
撮像センサー 2,048画素 CCDラインセンサカメラ(B/W)

OptoScan-700による
デモンストレーション

OptoScan-700は多くのお問い合わせを頂いているナノパターン検査装置です。
当社ではOptoScan-700を用いたデモンストレーションを実施しております。

実施内容 ①標準デモ:当社サンプルを用いた標準デモンストレーション/半日程度
②個別評価試験:お客様持込サンプルを用いた評価試験/1日~2日
※②に関しては、事前のお打ち合せ及び事前検討が必要になります。
詳細は以下までお問い合わせください。
実施場所 SCIVAX株式会社 NANOBIC(新川崎)内

欠陥検査事例

ハニカム形状のダレ(離型ムラ)

量産受託製造用装置

弊社の最先端量産装置によりお客様のニーズに合わせた様々な量産受託をお受けいたします。

G5基板対応大面積ナノインプリント装置 Unisurf1000

G5基板対応大面積ナノインプリント装置
Unisurf1000

大面積ナノインプリント装置 Unisurf-F700

大面積ナノインプリント装置
Unisurf-F700

高速ナノインプリント装置 FLAN700

高速ナノインプリント装置
FLAN700

特徴 Spec 備考
大面積成型 最大G5サイズ(1,100×1,300mm) ガラス基板成型時
多数個成型 対応可能 各種ウエハサイズに対応
離型機構 対応可能 条件により最適な離型方法を選択
アライメント 対応可能  

まずはお気軽にご相談下さい