Nanoimprint

ナノインプリント

ナノインプリント ナノインプリントとは?
シリコン基板はもちろん、化合物半導体基板から大型ガラス基板まで様々な基板を対象とした一括ナノインプリント成型が可能です。

SCIVAXナノインプリント技術の特長

  • 大面積成型

    当社の技術は、以下の要素技術の融合により、初めて実現することができる大面積ガラス基板への一括ナノインプリント技術に集約されています。

    大面積成型

    ①均圧成型技術 ②うねりのある面への追従成型技術
    ③残膜制御技術 ④自動離型技術
    ⑤気泡欠陥低減技術 ⑥パーティクル欠陥低減技術
    ⑦アライメント技術

    G5(1,100mmX1,300mm)ガラス基板への成型事例

    ガラス基板提供:東京エレクトロン㈱様
    東洋合成工業㈱社製のインプリント樹脂組成物を使用

  • 成型対象

    シリコン基板はもちろん、化合物半導体基板から大型ガラス基板まで様々な基板を対象とした一括ナノインプリント成型が可能です。

    成型対象イメージ図

    成型対象,ウェハー,ガラス,ガラスレンズ,メタル基板,各種樹脂フィルム、シート、基板

    ・ウェハー(φ2″~φ12″)
    ・ガラス(最大1,100mmX1,300mm)
    ・ガラスレンズ
    ・メタル基板
    ・各種樹脂フィルム、シート、基板

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トータルコーディネート

トータルコーディネート

各技術に精通したスペシャリスト集団とこれまでの多くの受託実績により、パターンの提案、樹脂の選定、前後工程も考慮したトータルプロセスのご提案が可能です。

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試作から量産受託までのイメージ

弊社規格の成型品・モールドの販売をしております。開発のテーマ検討、基礎評価にご利用下さい。

試作から量産受託までのイメージ
  • ①テストパターンによる試作

    テスト用モールド(既成モールド等を使用)を用いて試作を実施。原理検証他基礎評価を行います。

  • ②パターンの最適化

    ①の試作の結果を踏まえて、パターンの最適化を行います。当社シミュレーション及びモールド受託製造サービスをご活用ください。

  • ③最適化パターンによる試作

    パターンの最適化されたモールドを用いて製品プロトタイプを製造。

  • ④量産プロセス開発

    量産を実現するためのプロセス開発を行います。
    ・量産用モールド作成 ・製造設備のカスタマイズ
    ・品質管理基準

  • ⑤量産受託

    高度に管理された環境において量産製造を受託いたします。

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成型事例

様々な材質及び形状の基板への成型が可能です。
◯パターンサイズ:20nm~数百μm
◯基板:各種ウェハー(シリコン、サファイア、化合物半導体、他)、ガラス基板、ガラスレンズ、 メタル基板、樹脂フィルム・シート

  • 成形事例

    樹脂フィルム(COP)への成型

  • 成形事例

    ガラス基板への成型

  • 成形事例

    6″サファイア基板への成型

  • 成形事例

    フィルムへの無反射(モスアイ)加工

  • 成形事例

    レンズ表面への無反射加工

  • 12”ウェハーへの加工

    12”シリコンウェハーへの加工

  • 回析光学素子による光の回析の様子

    回折光学素子による光の回折の様子

  • 回折光学素子

    回折光学素子(DOE)

  • 成形事例

    超撥水加工

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成型サンプル・規格品モールド

成型サンプル

樹脂フィルムの成型サンプルを販売しております。詳しくは成型サンプルのページをご参照下さい。

成型サンプルの詳細はこちら

規格品モールド

規格品モールドを販売しております。詳しくは規格品モールドのページをご参照下さい。

規格品モールド詳細はこちら

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