Custom Mold

カスタムモールド製作

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カスタムモールド製作 ナノインプリント成型のみならず、射出成型他の様々な微細成型に用いるモールドをご提供いたします。
R&D用の小型モールドから量産用の大型モールドまで目的に合わせたサービスをご提供させていただきます。
規格品モールドのご提供 ナノインプリント技術検討において、高価なモールドのコストがネックとなりプロジェクトが頓挫する ケースが増えております。当社では初期評価を迅速に進めていただくことを目的に廉価な規格モールドをご提供しております。
カスタムモールドのご提供 当社規格品をベースとするセミカスタムモールドからフルカスタムモールドまで、お客様のニーズに応じたモールドをご提供いたします。
大面積モールドのご提供 お客様のニーズに合わせた大面積モールドをご提供いたします。
大面積モールドではパターンの繋ぎ目(スティッチライン)が問題になります。当社では、50nmレベルの超微細領域においてもスティッチラインを判別できないレベルまで極小化することに成功しました。

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規格品モールド

最先端の半導体プロセスを用いて作成したSi基板モールドを低価格でご提供いたします。
金型サイズが□10mmからφ300mmまでのラインナップの中からお選びいただけます。

L & S

L&S
L&S
Commodity Code Dimension of Structure (仕様) Effective Area Stamp Dimension Material Array
MALS250/500/500-30×30 Width:250nm, Height:500nm, Pitch:500nm □30mm □40mm Silicon(Si)
NALS250/500/500-30X30 Width:250nm, Height:500nm, Pitch:500nm □30mm □40mm Nickel(Ni)
MTLS1/1/2-50×50 Width:1μm, Height:1μm, Pitch:2μm □50mm □50mm Silicon(Si)
MTLS1/2/2-50×50 Width:1μm, Height:2μm, Pitch:2μm □50mm □50mm Silicon(Si)
MALS5/1/10-30×30 Width:5μm, Height:1μm, Pitch:10μm □30mm □40mm Silicon(Si)
NALS5/1/10-30×30 Width:5μm, Height:1μm, Pitch:10μm □30mm □40mm Nickel(Ni)
NALS500/250/1000-20×20 Width:500nm, Height:250nm, Pitch:1000nm □20mm □30mm Nickel(Ni)

Pillar

Pillar
φ230nm
Pillar
Height200nm
Pillar
Pitch460nm
Commodity Code Dimension of Structure (仕様) Effective Area Stamp Dimension Material Array
NAP100/100/400-30X30 φ100nm, Height:100nm, Pitch:400nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
MLP230/500/460-φ120 φ230nm, Height:500nm, Pitch:460nm φ120mm φ120mm Silicon(Si) Hexagonal
NAP230/100/460-30X30 φ230nm, Height:100nm, Pitch:460nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP230/200/340-30X30 φ230nmnm, Height:200nm, Pitch:340nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP230/200/460-30X30 φ230nm, Height:200nm, Pitch:460nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
MLP230/200/460-φ120 φ230nm, Height:200nm, Pitch:460nm φ120mm φ120mm Silicon(Si) Hexagonal
NAP230/200/690-30X30 φ230nmnm, Height:200nm, Pitch:690nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP230/200/690-30X30 φ230nmnm, Height:200nm, Pitch:690nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
NAP250/500/500-30×30 φ250nm, Height:500nm, Pitch:500nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP250/250/1000-20×20 φ250nm, Height:250nm, Pitch:1000nm □20mm □30mm Nickel(Ni) Square
NAP270/200/530-30X30 φ270nm, Height:200nm, Pitch:530nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP300/300/600-20×20 φ300nm, Height:300nm, Pitch:600nm □20mm □25mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP300/600/600-30X30 φ300nm, Height:600nm, Pitch:600nm □20mm □25mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP300/600/800-30X30 φ300nm, Height:600nm, Pitch:800nm □20mm □25mm Nickel(Ni) Square
NAP310/200/620-30X30 φ310nm, Height:200nm, Pitch:620nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP400/200/600-30X30 φ400nm, Height:200nm, Pitch:600nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP400/200/600-30X30 φ400nm, Height:200nm, Pitch:600nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
NAP400/400/600-30X30 φ400nm, Height:400nm, Pitch:600nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
NAP500/250/1000-20×20 φ500nm, Height:250nm, Pitch:1000nm □20mm □30mm Nickel(Ni) Square
NAP600/400/800-30X30 φ600nm, Height:400nm, Pitch:800nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Hexagonal
NAP600/400/800-30X30 φ600nm, Height:400nm, Pitch:800nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
NAP2000/500/5000-30X30 φ2000nm, Height:500nm, Pitch:5000nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square

Hole

Hole
φ500nm
Hole
Depth500nm
Hole
Pitch4000nm
Commodity CodeDimension of Structure (仕様)Effective AreaStamp DimensionMaterialArray
MAH100/100/400-30X30 φ100nm, Depth:100nm, Pitch:400nm □30mm □40mm Silicon(Si) Square
MAH250/500/500-30×30 φ250nm, Depth:500nm, Pitch:500nm □30mm □40mm Silicon(Si) Hexagonal
MLH230/200/460-φ120 φ230nm, Depth:200nm, Pitch:460nm φ120mm φ120mm Silicon(Si) Hexagonal
MAH300/300/600-30X30 φ300nm, Depth:300nm, Pitch:600nm □20mm □25mm Silicon(Si) Hexagonal
MAH300/600/600-30X30 φ300nm, Depth:600nm, Pitch:600nm □20mm □25mm Silicon(Si) Hexagonal
MAH300/600/800-30X30 φ300nm, Depth:600nm, Pitch:800nm □20mm □25mm Silicon(Si) Square
MTH500/500/1000 φ500nm, Depth:500nm, Pitch:1000nm □50mm □50mm Silicon(Si) Hexagonal
NAH2000/500/5000-30X30 φ2000nm, Depth:500nm, Pitch:5000nm □30mm □40mm Nickel(Ni) Square
MTH1.9/2.3/3-50×50 φ1.9μm, Depth3.3μm, Pitch3.0μm □50mm □50mm Silicon(Si) Hexagonal

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カスタムモールド

お客様の要求にあわせて製作する金型をご提案しております。
材質はSi、Ni(NiP)、SUS、石英での製作が可能です。7種の様々な手法を用いる事により、微細加工 で必要とされる全てのサイズを網羅しております。
最新の半導体技術でありますEB描画、レーザー描画、高速描画をはじめ射出成型技術である機械 加工での金型作成も行っております。

カスタムモールドのパターン,加工サイズ,加工エリア,材質の対応表

パターン ●ピラー●ホール●L&S ●ハニカム
●スクエア●レンズアイ●ブレーズド●再帰反射
加工サイズ 数十nm ~ 数μm
加工エリア □数mm ~ φ12インチ
材質 ●Si ●SUS ●Ni ●石英
  • ピラー

    ピラー

    ピラー

    製作可能範囲
    φ 30nm~
    高さ 30nm~
    ピッチ 60nm~
    パターンエリア □数mm~φ300mm
  • ホール

    ホール

    ホール

    製作可能範囲
    φ 30nm~
    高さ 30nm~
    ピッチ 60nm~
    パターンエリア □数mm~φ300mm
  • ラインアンドスペース

    ラインアンドスペース

    ラインアンドスペース

    製作可能範囲
    50nm~
    高さ 50nm~
    ピッチ 100nm~
    パターンエリア □数mm~φ300mm
  • 4種混載

    4種混載

    4種混載

    製作可能範囲
    2種・4種混載パターン(ピラー・ホール・L&S等)高さは同一となります。
    φ・幅 100nm~
    高さ 100nm~
    ピッチ 200nm~
    パターンエリア □10mm~50mm
  • ブレーズド

    ブレーズド

    ブレーズド

  • レンズアレー

    レンズアレー

    レンズアレー

  • ハニカム

    ハニカム

  • スクエア

    スクエア

  • モスアイ

    モスアイ

大面積モールド

量産案件に対応した大面積モールドをご提供いたします。
最先端の半導体技術を用いたφ12インチのモールドパターン境界を高精度な繋ぎで 製作致します。高精度なパターンを12インチ全面に作製する事が可能です。

  • 大面積モールド

    大面積モールド

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