SCIVAX株式会社　ナノインプリント事業

３次元細胞培養

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　　　ナノインプリント装置
　　　　　- Ｒ＆Ｄから量産まで、すべてのステージで高品質、低コスト、高い生産性を実現します。

ナノインプリント導入機として、
廉価版ＵＶ式ナノインプリント装置（Ｘ-100Ｕ）をリリースしました。
高性能ＬＥＤＵＶ光源、大面積ワーク、真空機構、他　
様々な基礎検討に要求される機能を備えております。

価格： 290万円 (消費税別）
納期：受注後 1.5ヶ月
仕様：

成形サイズ	□100mm
ＵＶ出力	20mW/cm2
最大荷重	4,000N
ストローク	100mm
真空操作圧力	300Ｐａ ※但し真空ポンプはOption
ＵＶ照射位置	上ｏｒ下　取付変更可能

詳細は下記へお問い合わせください

担当：奥田・田中　　（TEL：044-820-0551）

　●量産への最大の課題である高い再現性を実現

　●小面積から大面積まで一括転写可能

　●熱式、UV式両用

　●多機能（「真空操作」「雰囲気制御」「高温インプリント」等）

　●操作性（シンプルで人の動きに配慮した機能的デザイン）

　●クリーンルーム対応（駆動部の密閉化）

　●高い拡張性　（搬送系の付加により準量産に対応）

装置ラインナップ
φ6inch 熱式・UV式	□8inch 熱式・UV式	A4サイズ熱式・UV式	自動搬送量産
X－300	X－500	FLAN-300	XT-1000,FLAN-1000

● ピラー・ホールパターン　（応用事例：ＬＥＤ，ＬＤ，太陽電池，有機ＥＬ，バイオデバイス他）
1. ピラーパターン		2. ピラーパターン
φ100nm，高さ150nm　ピラー		φ230nm，高さ500nm　ピラー（シリコン基板）
3. サファイア基板上に形成したピラーパターン
（右上から左回りに）　φ100nm，φ150nm，φ200nm，φ250nm
●　LED高輝度化事例
サファイア基板面にナノパターンを形成
4. ハイアスペクトピラーパターン
ハイアスペクト（A/R=5）ピラーパターン
5. ホールパターン
φ230nm　ホール
● レンズアレー　（応用事例：ＬＥＤ，有機ＥＬ，導光板　他）
1. レンズアレーパターン
レンズアレー成形　φ10μm～φ200μm
● 無反射パターン　（応用事例：レンズ曲面，LED，液晶，太陽電池　他)
1. モスアイ構造
モスアイ	凸レンズ　　　　　　　　　　　　凹レンズレンズ曲面へのモスアイ加工が可能ですピッチ250nm～180nm

未処理レンズ	両面モスアイ加工レンズ
2. モスアイ構造

未処理フィルム	両面モスアイ加工フィルム
● ハニカム・格子パターン　（応用事例：各種電子材料，バイオデバイス　他)
1. ハニカムパターン		2. ハニカムパターン
１辺： 1μm～数十μm		１辺： 1μm～数十μm
3. スクエアパターン
１辺： 1μm～数十μm
●　細胞培養プレートへの応用事例
NanoCulture^® Plate スフェロイドを形成
● L&Sパターン　（応用事例：各種電子材料，変更板　他)
1. L&Sパターン		2. L&Sパターン
数十nm～（数百μm）		数十nm～数百μm
●　フォトニッククリスタルへの応用事例
フォトニッククリスタル
● メタル配線　（応用事例：各種電子材料，太陽電池　他)
1. Ag細線パターン		2. Ag細線パターン

PETフィルム上にAg細線パターンを形成　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　(線幅：　50nm～1μm）
● マイクロ流路　（応用事例：バイオデバイス)
1. マイクロ流路
流路幅　数μm～数百μm