ＳＣＩＶＡＸは、Ｒ＆Ｄと量産に向けての
ナノインプリント・トータルソリューションを提供します。 |
企業をはじめ、大阪大学・九州大学・京都大学・東京工業大学・東京大学・名古屋大学（五十音順） 等々、納入実績があります。
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新開発ＵＶ式－熱式両用ナノインプリント装置 Ｘ-300 |
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Ｒ＆Ｄから量産まで、すべてのステージで、高品質、低コスト、
高い設備生産性を追及し実現しています。 |
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■加工方式：熱式、ＵＶ式（オプション）
■加工サイズ：口100㎜（熱式φ150㎜）
■最大加熱温度：250℃、650℃（ｵﾌﾟｼｮﾝ）
■変位の最小分解能：0.05μm |
■加圧力：常用最大：50kN
■金型平行度調整機構：標準搭載
■アライメント：オプション
■外型寸法：H1800×D1350×W900（㎜） |
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弊社では、フィルム加工及びレジストによる基板加工へのご提案を行っております。 LED、HDD、各種光学素子（光学フィルム）、各種電子デバイスに関しまして、 貴社アプリケーションに応じた量産プロセスのご提案をさせて頂きます。弊社担当 (奥田・和地（わじ）tel:044-820-0551, mail) 迄 ご連絡ください。 |
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