| NanoCulture® Plate
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| NanoCulture® Medium
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| スフェロイド専用溶解液
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| スフェロイド専用分散液
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NCP (NanoCulture® Plate)
メーカーコード |
製品名 |
容量 |
保管温度 |
| NCP-LS96-2 NCP-LS96-10 |
NanoCulture® Plate MSパターン、 低接着、96ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-LS24-2 NCP-LS24-10 |
NanoCulture® Plate MSパターン、 低接着、24ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-LH96-2 NCP-LH96-10 |
NanoCulture® Plate MHパターン、 低接着、96ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-LH24-2 NCP-LH24-10 |
NanoCulture® Plate MHパターン、 低接着、24ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-LSH96-2 | NanoCulture® Plate MS/MHパターン、 低接着、96ウェル |
2枚 |
室温 |
| NCP-LSH24-2 | NanoCulture® Plate MS/MHパターン、 低接着、24ウェル |
2枚 |
室温 |
お使いの細胞に最適な培養条件を決定するために、まずはNanoCulture® Plate MS/MH パターン、低接着、96ウェ ル（Cat.# NCP-LSH96-2）でお試しください。
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上記の結果、この細胞に最適な培養条件はMSパターンとMタイプ培地の組み合わせとなります。
NCP-H(NanoCulture® Plate 高接着タイプ）
HプレートはLプレートの接着性を高めた仕様です。低接着タイプのプレートで、目的の細胞がスフェロイドを形成し たプレートと同じパターンをお使いください。Lプレートでスフェロイドが浮遊しやすい細胞をHプレートで培養すると 浮遊が抑えられることがありますが、細胞の種類によっては細胞とHプレート培養面の接着性が高いため、スフェロ イドが形成されなくなる場合があります。詳細はお問い合わせください。
メーカーコード |
製品名 |
容量 |
保管温度 |
| NCP-HS96-2 NCP-HS96-10 |
NanoCulture® Plate MSパターン、 高接着、96ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-HS24-2 NCP-HS24-10 |
NanoCulture® Plate MSパターン、 高接着、24ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-HH96-2 NCP-HH96-10 |
NanoCulture® Plate MHパターン、 高接着、96ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
| NCP-HH24-2 NCP-HH24-10 |
NanoCulture® Plate MHパターン、 高接着、24ウェル |
2枚 10枚 |
室温 |
最適プレートパターンの選び方
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上段の写真を見るとLプレートでは接着が弱く、細胞がはがれてしまっています。
この場合、接着性の高いHプレートでの培養をお勧めいたします。
しかし、下段の写真ではHプレートで培養すると平面化してしまっています。
つまりこの細胞はLプレートのほうが適しているということになります。